鉻酸陽極氧化

  經鉻酸陽極氧化得到的陽極氧化膜厚度為2μm~5μm，空隙率低，膜層質軟，耐磨性較差，（導讀：鉻酸陽極氧化 http://www.lypnb.com/Article/yangjiyanghuachuli_g_1.html）。由于鋁的溶解少，形成陽極氧化膜后，零件仍能保持原來的精度和表面粗糙度，故該工藝適用于精密零件。表1是鉻酸陽極氧化工藝規范。
 

表1是鉻酸陽極氧化工藝規范。

  (一)鉻酉干的質量濃度

  鉻配含量過高或過低，陽極氧化能力都降低，但稍微偏高是允許的。鉻配含量過低的電解液不穩定。會造成膜層質量下降。

  (二)雜質

  在鉻酸陽極氧化電解液中的氯離子、硫酸根離子和三價鉻離子都是有害的雜質。氯離子會引起零件的蝕刻;硫酸根離子數量的增加會使陽極氧化膜從透明變為不透明，并縮短鉻酸液的使用壽命;三價鉻離子過多會使陽極氧化膜變得暗而無光。

  (三)電壓

  在陽極氧化開始的15min內，使電壓從0V逐漸升至40V,每次上升不超過5V，以保持電流在規定的范圍內，當槽電壓達40V后，一直保持到陽極氧化結束。

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